UV-Objektiv(NPAL-50-UV-YSF)

PFL-50-UV-AG-A

Diese Objektivlinse kann für die Laserbearbeitung mit gepulsten Lasern von SHG (532 nm) YAG-Laser und FHG (266 nm) YAG verwendet werden. Die chromatische Aberration wird sowohl bei der sichtbaren als auch bei der UV-Laserwellenlänge unterdrückt, wodurch eine hohe Transmission erreicht wird.
◦Mit seinem langen Arbeitsabstand und der korrigierten Feldkrümmung wird sein natürliches Beobachtungsbild bis zum Rand des Gesichtsfelds erhalten.
◦Es ist die lang arbeitende Unendlich-Korrekturfunktion, die verwendet wird, um ein Lasersystem und eine koaxiale Beobachtung einzuführen.< br>◦Es wird auch für die Beobachtung von ultraviolettem Licht verwendet.
◦Laserschadensschwelle (typisch) 0,09 J/cm2 (266nm), 0,2J/cm2 (532 nm) (Laserpulsbreite 10 ns, Wiederholfrequenz 20 Hz)
Weitere Informationen
Name UV-Objektiv(NPAL-50-UV-YSF)
Gewicht 0.4100kgs
Standardbeschichtungen verfügbar Nein
Leitfaden
  • Available fixed objective lens holder (LHO-26).
  • WEB-Referenzkatalogcode/W4024
  • When the objective lens is fixed to a 2 axis holder, please consult our Sales Division.
  • For laser processing, we offer a dichroic block (DIMC WEB-Referenzkatalogcode/W2041) and for laser unit with coaxial illumination and observation (OUCI-2).
Achtung
  • When an objective lens is used in laser processing, use the diameter of the incident beam to extend to a size of half the pupil diameter (1/e2). A small light spot cannot be achieved when the incident beam is too narrow. Please note if there is a laser energy density increase, there will be a high possibility of damage to the objective lens.
  • The surface of an objective lens can be contaminated by debris during processing. To avoid this, please have sufficient working distance (WD) and insert a thin protective glass on the objective.
  • Magnification is the value when using the imaging lens f=200mm. When used in a microscope lens barrel from other manufacturers there may be different magnifications. The actual magnification should be calculated from the ratio of the focal length of the objective lens and the focal length of the imaging lens to verify the focal length of the imaging lens barrel to be used.
Image Label Ultra-violet Objective Lens(NPAL-50-UV-YSF)
Brennweite 4mm
Vergrößerung 50×
Numerische Apertur 0.42
Arbeitsabstand WD 12mm
Item name Mplan UV 50x
Design-Wellenlänge 266nm
Magnification 50×
Numerical Apertur (NA) 0.42
Working distance (WD) 12mm
Brennweite 4mm
Auflösung (λ=550nm) 0.65μm
Fokustiefe (λ=550nm) ±1.6μm
Pupillendurchmesser φ3.4mm
Echtes Sichtfeld (Eyepiece φ24mm) φ0.48mm
Echtes Sichtfeld (Bildgebungsgerät 1/2-inch) 0.10×0.13mm
Gewicht 0.41kg
Auf Lager
SKU
PFL-50-UV-AG-A
9.462,90 €

Delivery in : 6-12 weeks

Diese Objektivlinse kann für die Laserbearbeitung mit gepulsten Lasern von SHG (532 nm) YAG-Laser und FHG (266 nm) YAG verwendet werden. Die chromatische Aberration wird sowohl bei der sichtbaren als auch bei der UV-Laserwellenlänge unterdrückt, wodurch eine hohe Transmission erreicht wird.

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