Streuungsarmes MgF2 Substrat 30.0mm Durchmesser

OPMFSP-30C05-10-5

Wir können einen speziellen optischen Polierservice für Optiken oder Keilsubstrate anbieten, die eine Oberflächenrauheit von <0,2 nm (Ra) erreichen. Diese Substrate mit geringer Streuung sind für Hochleistungslaser- und Röntgenanwendungen sehr gefragt.
◦Verwenden Sie ein keilförmiges Substrat für einen Strahlteiler, um Rückreflexionseffekte zu vermeiden.
◦CaF2 (Calciumfluorid) und MgF2(Magnesiumfluorid) werden hauptsächlich in mainly UV und IR für seine hohe Transmission.
◦Unsere hochtechnologische Verarbeitung führt zu einer geringen Oberflächenrauheit (mikroskopische Unregelmäßigkeiten) und einer präzisen Oberflächengenauigkeit (Ebenheit der gesamten Oberfläche).
Weitere Informationen
Name Streuungsarmes MgF2 Substrat 30.0mm Durchmesser
Gewicht 0.0120kgs
Standardbeschichtungen verfügbar Ja
Leitfaden
  • Wedged substrates have marked with an arrow indicating the direction of front surface at the thickest thickness point.
Achtung
  • The low scattering substrates are uncoated; the reflectance from the surface is 2.5% to 4%.
  • If using wedge substrate for transmission application, the beam will be deviate approximately 0.5 degrees.
  • The CaF2 substrate surface can be easily scratched. Do not use contact cleaning, please use air-blow for dirt cleaning.
  • The CaF2 and the MgF2 substrates get rough under high temperature and high humidity environment. Stock them in dry optical cabinet after use.
Durchmesser φD 30mm
Material MgF<sub>2</sub>
Material MgF2
Surface roughness <0.2nm(Ra)
Typ Optical Parallel
Durchmesser φD φ30mm
Dicke t 5mm
Oberflächenebenheit λ/10
Parallelität <5″
Oberflächenqualität (Scratch-Dig) 20−10
Auf Lager
SKU
OPMFSP-30C05-10-5
754,30 €

Delivery in : 6-12 weeks

Wir können einen speziellen optischen Polierservice für Optiken oder Keilsubstrate anbieten, die eine Oberflächenrauheit von <0,2 nm (Ra) erreichen. Diese Substrate mit geringer Streuung sind für Hochleistungslaser- und Röntgenanwendungen sehr gefragt.

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